La modifica delle proprietà superficiali di un materiale comprende una serie di processi che vanno dal semplice trattamento attivazione e/o pulizia, alla funzionalizzazione, al grafting di specie chimiche attive fino alla deposizione di film sottili.
Nova Res fornisce consulenza sulla messa a punto di processi industriali di trattamento superficiale in funzione della forma degli oggetti, dell’applicazione finale e delle quantità di componenti.
Tra le varie tecnologie valutate vi sono processi:
- ALD – Atomic Layer Deposition
- Sol-Gel
- Plasma-CVD
- Sputtering
- Arco Voltaico
- Plasma a Pressione Atmosferica
Nova Res ha costruito una partnership con la Beneq Oy finlandese, per la vendita, l’installazione di impianti e lo sviluppo di processi ALD su svariati substrati.
La tecnica Atomic Layer Deposition (ALD) è basata sull’uso sequenziale di reazioni gas-solido auto-terminanti. All’interno di un reattore in vuoto, la ALD permette di depositare film sottili conformi a tutta la superficie esposta dei substrati, con spessori da pochi nanometri a qualche micron. I film sottili depositati per ALD sono caratterizzati da alte densità e basse concentrazioni di difetti, il che li rende indispensabili per alcune applicazioni di barriera alla diffusione di agenti atmosferici o metalli pesanti.